NMC 612C 12英寸硅刻蚀机
NMC 612C 12 Inch Silicon Etcher
- 设备特点
-
- 精准的关键尺寸以及形貌控制能力并具备多种工艺均匀性调节技术
- 具有多层堆叠膜层结构原位刻蚀能力
- 定制化的软件配置
- 产品应用
-
- 晶圆尺寸12英寸
- 适用材料硅
- 适用工艺多晶硅栅极刻蚀、浅槽隔离刻蚀、侧墙刻蚀
- 适用领域集成电路、功率半导体
